Nicomp 380納米粒徑分析儀專為復(fù)雜體系提供高精度粒度解析方案

Nicomp 380納米粒徑分析儀采用動態(tài)光散射（Dynamic Light Scattering, DLS）原理來獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布。DLS是通過一定波長的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面，從而產(chǎn)生很多的散射光波。這些光波會互相干涉從而影響散射強度，散射強度隨時間不斷波動，二者之間形成一定的函數(shù)關(guān)系。粒子的擴散現(xiàn)象（或布朗運動）導(dǎo)致光強不斷波動。光強的變化可以通過探測器檢測得到。使用自相關(guān)器分析隨時間而變的光強波動就可以得到粒度分布系數(shù)（Particle size distribution, PSD）。單一粒徑分布的自相關(guān)函數(shù)是一個指數(shù)衰減函數(shù)，由此可以很容易通過衰減時間計算得到粒子擴散率。終，粒子的半徑可以很容易地通過斯托克斯（Stokes-Einstein）方程式計算得到。

大部分樣品一般都不均勻，往往會呈現(xiàn)多分散體系狀態(tài)，即測出來的粒徑正態(tài)分布范圍會比較大，直觀的呈現(xiàn)是粒徑分布峰比較寬。自相關(guān)函數(shù)是由多組指數(shù)衰減函數(shù)綜合組成，每一個指數(shù)衰減函數(shù)都會因指數(shù)衰減時間不同而存在差異，此時計算自相關(guān)函數(shù)就變得不再簡單。

Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運用了去卷積算法來轉(zhuǎn)化原始數(shù)據(jù)，從而得出接近真實值的粒度分布。Nicomp 尤其適合測試粒度分布復(fù)雜的樣品體系，利用一組*的去卷積算法將簡單的高斯正態(tài)分布模擬成高分辨率的多峰分布模式，這種去卷積分析方法，即得到PSS粒度儀公司*的粒徑分布表達方法—Nicomp分布（Nicomp Distribution）。

有些儀器的高斯分析模式可以使用基線調(diào)整參數(shù)的功能，以此來補償測試環(huán)境太臟而超出儀器靈敏度的問題。高斯分析模式也可以允許使用者“固體重量模式”或者“囊泡重量模式”來分析帶有小囊泡的膠體體系，比如脂質(zhì)體。

Nicomp分析方法是一種的高分辨率的去卷積算法，它在1990年提出并應(yīng)用于分析和統(tǒng)計粒徑分布。在歷*已經(jīng)證明Nicomp分析方法能夠分析非常復(fù)雜的雙峰樣品分散體系（比如 2：1比例），甚至是三峰樣品分散體系。在科學(xué)研究中，找到粒子聚集分布的雜峰是非常有用的。